发明名称 薄膜形成装置
摘要 本发明提供一种可藉由仅于多片基板上之特定部分形成薄膜之作业简化并效率化,而缩短薄膜形成时之作业时间,削减成膜作业之费用之薄膜形成装置。;薄膜形成装置100所具备之基板保持机构3具备:基板保持构件10~40,以基板S之非成膜部分S2之一部分与另一基板S重合,而成膜部分S1露出之方式保持复数个基板S;支持构件50,支持基板保持构件10~40;以及旋转构件60,使支持构件50旋转;且基板保持构件10~40具有:复数个保持面11d,保持复数个基板S,且配置于成膜源4与复数个基板S之间;复数个阶差部11e,形成于复数个保持面11d之间,且与复数个基板S之端部分别抵接;以及复数个开口部11f,在处于基板S之端部抵接于复数个阶差部11e之状态时,形成在相当于成膜部分S1之部分之保持面11d上。
申请公布号 TWI403597 申请公布日期 2013.08.01
申请号 TW101132713 申请日期 2012.09.07
申请人 新柯隆股份有限公司 日本 发明人 姜友松;盐野一郎;宫内充佑;青山贵昭;林达也;长江亦周
分类号 C23C14/04;C23C14/24 主分类号 C23C14/04
代理机构 代理人 阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本