浸润式曝光用光阻组成物及光阻图型之形成方法

摘要

本发明为含有，;(A)基于酸之作用而使硷溶解性产生变化之树脂成份，与(B)经由曝光产生酸之酸产生剂成份之浸润式曝光用光阻组成物，其中，前述酸产生剂成份(B)为含有具下述通式(b1－1)所示阳离子部之酸产生剂(B1)。;[化1];…(b1－1);[式中，R42与R43各自独立为烷基、烷氧基或羟基，n2与n3各自独立为0至2之整数]。