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发明名称
基底处理装置
摘要
一种基底处理装置,其包括第一与第二传递腔室、用于与各个第一与第二传递腔室交换一个或多个基底之负荷固定腔室,及一基底传递单位,该基底传递单位在该等第一与第二负荷固定腔室之间,用于传递一个或多个基底至该等第一与第二负荷固定腔室。
申请公布号
TWI406349
申请公布日期
2013.08.21
申请号
TW097122615
申请日期
2008.06.18
申请人
爱德牌工程有限公司 南韩
发明人
赵喆来;朴将完;郑元基
分类号
H01L21/67
主分类号
H01L21/67
代理机构
代理人
黄志扬 台北市中山区长安东路1段23号10楼之1
主权项
地址
南韩
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