发明名称 半导体装置
摘要 本发明以提供能解决三次元半导体之环绕式闸极半导体(surrounding gate transistor;SGT)因寄生电容的增加而增大消耗电力并降低动作速度,可实现SGT之高速化及低消耗电力的半导体装置为课题。;本发明之半导体装置具备:形成在第1导电型半导体基板(100)之一部分的第2导电型杂质区域(510);形成在其上之任意横断面形状之第1矽柱(810);包围其表面之一部分的第1绝缘体(310);以及包围该绝缘体之闸极(210)、及形成在第1矽柱(810)上部之包含第2导电型杂质区域(540)的第2矽柱(820)。上述构成之闸极系以第2绝缘体自半导体基板隔离而配置,又闸极系以第2绝缘体自第2矽柱隔离而配置。用以解决上述课题之技术特征在于:闸极与半导体基板间之电容系比闸极电容还小,及闸极与第2矽柱间之电容系比闸极电容还小。
申请公布号 TWI406412 申请公布日期 2013.08.21
申请号 TW096146241 申请日期 2007.12.05
申请人 新加坡优尼山帝斯电子私人有限公司 新加坡 发明人 舛冈富士雄;工藤智彦
分类号 H01L29/772 主分类号 H01L29/772
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项
地址 新加坡