发明名称 基板载置台,基板处理装置及基板载置台的制造方法
摘要 本发明之课题;提供一种基板载置台及其制造方法,其可防止形成于基板载置台之凸部本身所造成的蚀刻不均等处理不均。;本发明之解决手段;基板处理装置来载置基板的基板载置台,系具有:载置台本体;和从载置台本体之基板载置侧之基准面突出,而形成的复数凸部;和包围基准面,于载置基板时接触基板边缘部,而形成为比上基准面突出的边缘台部;基准面及边缘台部之顶面,系表面粗糙度Ra(算术平均粗糙度)为1.5μm以下的平滑面,凸部之顶面,系表面粗糙度Ry(最大高度)为8μm以上的粗面。
申请公布号 TWI413205 申请公布日期 2013.10.21
申请号 TW095121599 申请日期 2006.06.16
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 林圣;里吉务
分类号 H01L21/68 主分类号 H01L21/68
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本