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发明名称
工件局部真空电镀方法
摘要
本发明系关于一种工件局部真空电镀方法,主要系在电镀区以外之区域附着遮蔽膜;藉此隔离电镀区以外之区域产生电镀状态;因此只有在被选定之电镀区会有电镀状态之产生,在电镀区形成一个独立之电镀制程进而达到「局部真空电镀」之效果。
申请公布号
TWI412613
申请公布日期
2013.10.21
申请号
TW098138309
申请日期
2009.11.11
申请人
詹水坤 桃园县龟山乡湖山街195号
发明人
詹水坤
分类号
C23C14/04;C23C14/24
主分类号
C23C14/04
代理机构
代理人
石继志 高雄市左营区明诚二路332号7楼之3
主权项
地址
桃园县龟山乡湖山街195号
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