发明名称 工件局部真空电镀方法
摘要 本发明系关于一种工件局部真空电镀方法,主要系在电镀区以外之区域附着遮蔽膜;藉此隔离电镀区以外之区域产生电镀状态;因此只有在被选定之电镀区会有电镀状态之产生,在电镀区形成一个独立之电镀制程进而达到「局部真空电镀」之效果。
申请公布号 TWI412613 申请公布日期 2013.10.21
申请号 TW098138309 申请日期 2009.11.11
申请人 詹水坤 桃园县龟山乡湖山街195号 发明人 詹水坤
分类号 C23C14/04;C23C14/24 主分类号 C23C14/04
代理机构 代理人 石继志 高雄市左营区明诚二路332号7楼之3
主权项
地址 桃园县龟山乡湖山街195号