| 摘要 |
一种半导体制程处理系统，其包括真空锁(load lock)、传送室、以及一或多个处理腔室；其中，传送室位于真空锁与处理腔室之间，并且处理腔室可围绕传送室设置；传送室配备传送装置。本发明可只藉由传送装置之运动，而不需要真空锁或处理腔室在垂直方向之运动，即可完成工件装卸或交换动作。因此，可更加迅速及低成本地装卸及交换工件，提高产能。本发明亦公开一种采用特殊设计之进排气系统的处理腔室，使得处理腔室内之各处理平台之间形成反应气体幕障，可改良各处理平台之间的均一度，避免了不同处理平台之间的反应气体交互干扰。 |
