发明名称 |
用于首次化学机械研磨之浆料组成物及化学机械研磨方法 |
摘要 |
本发明系关于一种用于首次化学机械研磨之浆料组成物及化学机械研磨方法,其可展现较佳之晶圆内非均匀度,并呈现优异的研磨速率及研磨选择性。;用于首次化学机械研磨之该浆料组成物包括:研磨料;氧化剂;有机酸;特定腐蚀抑制剂;以及聚合物添加剂,其包括重量平均分子量约为3000至100000之聚乙烯吡咯烷酮(polyvinylpyrrolidone),且该浆料组成物具有铜层:钽层研磨速率约为30:1以上之研磨选择性。 |
申请公布号 |
TWI412582 |
申请公布日期 |
2013.10.21 |
申请号 |
TW098141166 |
申请日期 |
2009.12.02 |
申请人 |
LG化学公司 南韩 |
发明人 |
崔银美;申东穆;曹昇范 |
分类号 |
C09K3/14;B24B37/11;H01L21/304 |
主分类号 |
C09K3/14 |
代理机构 |
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代理人 |
吴冠赐 台北市松山区敦化北路102号9楼;苏建太 台北市松山区敦化北路102号9楼 |
主权项 |
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地址 |
南韩 |