| 摘要 |
正型微影用的共聚合物至少含有重覆单元(A)，重覆单元结构中之硷性可溶基团为酸解离、溶解抑制基团所保护，如下述通式(A)所示：;(A);[于通式(A)中，R10为氢原子或可具氟原子取代基之碳氢基团；R11为连接之脂环族碳氢基团；n为0或1的正整数；而R12为酸解离、溶解抑制基团]；且末端结构(B)中之硷性可溶基团为酸解离、溶解抑制基团所保护，如下述通式(B)所示：;(B);[于通式(B)中，R21为可含有氮原子之碳氢基团；R22为酸解离、溶解抑制基团；而p为与共聚合物主链键结的位置]。;共聚合物系用于化学增幅正型微影且具有优异之微影性质(例如，溶解反差)。 |
