| 摘要 |
本发明提供一种用以决定电浆处理系统的反应腔室内之实际气体流率的方法。此方法包含有透过由一质量流量控制器(MFC)加以控制之气体流量输送系统来输送气体至一位于该反应腔室上游侧的孔口。此方法亦包含有加压该气体，以在该孔口内形成一阻流的流动状态。此方法进一步包含有经由一组压力感测器来测量该气体的一组上游侧压力值。此方法再另外包含有施用一组校正因子中的一校正因子来决定该实际流率。该校正因子系该组上游侧压力值的平均值对一组黄金上游侧压力值之平均值的比值，该等黄金压力值系代表与该质量流量控制器之一指示流率相关的压力值。 |
