发明名称 |
处理设备及处理方法 |
摘要 |
一种处理设备对一待处理物件W施行一热处理。该处理设备包括:一处理容器22,能够容纳一待处理物件W;一感应加热线圈部104,设置于该处理容器22之外;一射频电源110,用以施加射频功率至该感应加热线圈部104;一气体供应部90,用以将一气体导入该处理容器22;一夹持部24,用以在该处理容器22中夹持该待处理物件W;以及一感应加热元件N,其藉由来自感应加热线圈部104之射频波而被感应加热,俾加热该待处理物件W。该感应加热元件N设有一切槽,用以控制该感应加热元件上所产生之涡电流的流动。 |
申请公布号 |
TWI427724 |
申请公布日期 |
2014.02.21 |
申请号 |
TW098102030 |
申请日期 |
2009.01.20 |
申请人 |
东京威力科创股份有限公司 日本 |
发明人 |
泽田郁夫;松浦广行;高桥俊树 |
分类号 |
H01L21/67;H01L21/31;H05B3/26 |
主分类号 |
H01L21/67 |
代理机构 |
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代理人 |
周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 |
主权项 |
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地址 |
日本 |