发明名称 处理设备及处理方法
摘要 一种处理设备对一待处理物件W施行一热处理。该处理设备包括:一处理容器22,能够容纳一待处理物件W;一感应加热线圈部104,设置于该处理容器22之外;一射频电源110,用以施加射频功率至该感应加热线圈部104;一气体供应部90,用以将一气体导入该处理容器22;一夹持部24,用以在该处理容器22中夹持该待处理物件W;以及一感应加热元件N,其藉由来自感应加热线圈部104之射频波而被感应加热,俾加热该待处理物件W。该感应加热元件N设有一切槽,用以控制该感应加热元件上所产生之涡电流的流动。
申请公布号 TWI427724 申请公布日期 2014.02.21
申请号 TW098102030 申请日期 2009.01.20
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 泽田郁夫;松浦广行;高桥俊树
分类号 H01L21/67;H01L21/31;H05B3/26 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项
地址 日本