发明名称 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要 <p>기판을 가열하기 위한 램프의 수명을 길게 한다.기판을 처리하는 수광실(受光室); 상기 수광실 내에 설치되고, 기판을 지지하는 기판 지지부; 램프 전기 배선과, 상기 램프 전기 배선을 내포하여 램프 내의 기체를 기밀하게 봉지하는 봉지부를 포함하고, 상기 기판 지지부에 지지된 기판에 광을 조사하는 상기 램프; 상기 수광실 외에 설치되고, 냉매가 흐르는 냉각 유로와, 상기 램프와, 상기 램프와 연결되고 상기 램프 전기 배선에 전류를 공급하는 램프 연결 부재와, 상기 봉지부보다도 열전도율이 높은 재료로 구성되고 상기 봉지부의 주위를 피복하여 상기 봉지부에 접촉하는 흡열(吸熱) 부재와, 상기 흡열 부재에 접촉하여 상기 흡열 부재를 고정하기 위한 기초 부재를 포함하는 램프 수용부; 및 상기 램프 연결 부재에 접속되고, 상기 램프 연결 부재에 전류를 공급하는 외부 전기 배선;을 구비하고, 상기 흡열 부재는, 내부 형상이 상기 램프 연결 부재의 외부 형상과 동일하고, 상기 램프 연결 부재를 덮어 싸도록 구성되는 제1 공간; 및 상기 제1 공간 하방에 형성되고, 내부 형상이 상기 봉지부와 동일하고, 상기 봉지부가 덮어 싸도록 구성되는 제2 공간;을 포함하는 기판 처리 장치를 구성한다.</p>
申请公布号 KR101391301(B1) 申请公布日期 2014.05.02
申请号 KR20120070581 申请日期 2012.06.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/02;H01L21/205 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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