| 摘要 |
Vorrichtung zum Elektronenstrahlbedampfen, bei der in kontinuierlich arbeitenden Vakuumbeschichtungsanlagen ein zu beschichtendes bandförmiges Substrat in einer Längsrichtung über einen Tiegel zur Aufnahme des Materials als Target, aus dem auf der dem Tiegel zugewandten Seite des Substrates eine Schicht aufgebracht werden soll, führbar ist, wobei der Tiegel quer zur Längsrichtung hin und her bewegbar ist und zwischen dem Tiegel und der zu beschichtenden Seite des Substrats eine Blendenanordnung angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Blendenanordnung eine einstellbar formveränderliche Anordnung aus Abschirmblenden zwischen dem Substrat und dem Tiegel umfasst, die derart ausgebildet ist, dass die Größe der dem Dampf ausgesetzten Beschichtungszone (11) synchron zu einer Veränderung der Dampfwolke (7) veränderbar ist. |
