| 摘要 |
ガス供給装置は、ダイヤフラム閉鎖部（４）を有するガスカプセル（２）を備えている。カプセル（２）には、貫通する通路（１２）を有するキャップ（１０）が固定的に留められている。（通路１２）には弁部材（１４）がある。弁部材（１４）は、ばね（２２）の付勢に逆らう力の印加によって推進されてダイヤフラム閉鎖部（４）を穿孔し、ガスをカプセル（２）から放出させることができるダイヤフラム穿孔装置（２０）を担持する前方面を有している。ダイヤフラム穿孔力が取り除かれると、弁部材（１４）の後方面（３０）が（ばね２２）によって、ガスがカプセル内に維持される弁閉鎖位置へ付勢されることになる。【選択図】図２ |
