| 摘要 |
<p>Eine Verdampferanordnung (100), die zur Abscheidung einer Schicht (1) auf einem Substrat (2) im Vakuum eingerichtet ist, umfasst ein Verdampfungsreservoir (10), das zur Aufnahme eines flüssigen oder festen Verdampfungsmaterials (3) und zur Erzeugung eines von einer Verdampferfläche (4) im Verdampfungsreservoir (10) hin zu dem Substrat (2) gerichteten Dampfstrahls (5) des Verdampfungsmaterials (3) eingerichtet ist, eine substratseitige Blende (30), die zum Durchtritt des Dampfstrahls (5) angeordnet ist, und eine Substrathalterung (40), die zur Bereitstellung des Substrats (2) mit einer zur substratseitigen Blende (30) freiliegenden Substratfläche (7) eingerichtet ist, wobei des weiteren zwischen dem Verdampfungsreservoir (10) und der substratseitigen Blende (30) eine quellenseitige Blende (20) angeordnet ist und alle geraden Dampfwege, welche von der Verdampferfläche (4) durch die quellenseitigen Blende (20) und die substratseitige Blende (30) verlaufen, auf die Substratfläche (7) treffen. Es wird auch ein Verfahren zur Abscheidung einer Schicht auf einem Substrat (2) im Vakuum beschrieben.</p> |
