| 摘要 |
<p>Selon un mode de mise enœuvre, le procédé comprend a) une formation dans ledit au moins un élément (1) d'au moins un bloc en saillie (BLC), b) un recouvrement dudit au moins un bloc en saillie (BLC) par une première couche de recouvrement (2) de façon à former au-dessus du bloc en saillie (BLC) un monticule concave (20) auto-aligné avec ledit bloc en saillie et tournant sa concavité vers le bloc en saillie, c) une formation dans le monticule (20) d'une première tranchée (TRI) auto-alignée avec le monticule et le bloc en saillie jusqu'à atteindre le bloc en saillie, d) une gravure (GR2) du bloc en saillie (BLC) utilisant le monticule (20) et sa première tranchée (TRI) comme masque de gravure de façon à former une deuxième tranchée (TR2) dans ledit bloc en saillie auto-alignée avec la première tranchée (TRI) et e) au moins un retrait du reliquat de première couche de recouvrement (2), ledit motif (MTF) comportant ladite deuxième tranchée (TR2) ainsi que les parties non gravées (BLCa, BLCb) du bloc en saillie délimitant ladite deuxième tranchée (TR2).</p> |
