| 摘要 |
<p>プラズマ処理をおこなうときに、絶縁性基板を強く吸着保持できる真空処理装置及び真空処理方法を提供する。接地された真空槽１１と、真空槽１１に接続された真空排気装置１９と、真空槽１１内部に配置された吸着装置４０と、吸着装置４０に設けられた単極３に出力電圧を印加する吸着用電源１６と、真空槽１１内にプラズマ生成ガスを導入するプラズマ生成ガス導入装置２１と、プラズマ生成ガスをプラズマにするプラズマ生成部２０とを有し、吸着装置４０上に処理対象物６を配置して真空槽１１内にプラズマを生成しながら吸着用電源１６によって単極３に出力電圧を印加し、処理対象物６を吸着装置に吸着しながらプラズマによって処理する真空処理装置１であって、処理対象物６には絶縁性基板が用いられ、吸着用電源１６は正電圧と負電圧とを周期的に変化した出力電圧を単極３に出力する。</p> |
