涂布、显像装置，涂布、显像方法及记忆媒体

主权项

一种涂布、显像装置，系构成使自被载置于载体区块的载体取出的基板在处理区块形成包含阻剂膜的涂布膜之后，交接至曝光装置，对于曝光后的基板，在处理区块进行显像处理，交接至载体，基板的处理片数比曝光装置更多之涂布、显像装置，其特征为具备：暂置部，其系一旦暂置形成有前述涂布膜之曝光前的基板；停止时间设定部，其系用以为了针对基板的搬送路径中被放置有基板的模组进行维修，而设定停止该上游侧的基板的搬送之时间的长度；及控制部，其系监视被放置于前述暂置部的基板的片数是否到达对应于前述停止时间的长度之前述处理区块的基板的处理片数，到达后输出控制讯号而使能够停止比暂置部更上游侧的基板的搬送。