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发明名称 プラズマ処理装置
摘要
申请公布号 JP5800757(B2) 申请公布日期 2015.10.28
申请号 JP20120120477 申请日期 2012.05.28
申请人 株式会社日立ハイテクノロジーズ 发明人 川上 雅敏;牧野 昭孝;北田 裕穂;田中 一海;中村 勤;木原 秀樹
分类号 H01L21/3065;H05H1/46 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
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