| 主权项 |
1﹒一种能电沉积的光阻组合物,其系含以下组份之分散水液:(a)一种水能分散的不饱和阳离子性聚合物质,其系一聚环氧物与一第二反应物之反应产物,该环氧化物系一多元醇之聚脱水甘油基醚,而该第二反应物系一胺、硫化物、膦或其混合物,其用量系可提供每莫耳树脂固体0﹒1至2﹒0毫当量具被阳离子荷电潜能之基团,该反应产物系另与一经部份保护异氰酸酯之第三反应物反应,该经即份保护与氰酸酯系一多异氰酸酯与一含活性氢之乙烯型不饱和化合物之反应产物,(b)一种占树脂固体物重量1-70重量%且每分子至少含2个不饱和基团之非离子性不饱和物质,与(c)至少0﹒05重量%之一种光引发剂;其中该组合物系具每不饱和当量300至25,000克树脂之并合不饱和当量,该阳离子性聚合成份(a)上用量系可提供5至80百分比的并合不饱和,且该非离子性成份(b)之用量系可撰供95至20百分比的并合不饱和。2﹒根据申请专利范围第1项之能电沉积的光阻组合物,其中胺系由氨,伯胺,仲胺,叔胺或其混合物衍生。3﹒根据申请专利范围第2项之能电沉积的光阻组合物,其中胺系,丁基胺,甲基乙醇胺或其混合物。4﹒根据申请专利范围第3项之能电沉积的光阻组合物,其中胺为二丁基胺与甲基乙醇胺或其混合物。5﹒根据申请专利范围第1项之能电沉积的光阻组合物,其中(a)中之聚脱水甘油基醚之多元醇系含一芳基。6﹒根据申请专利范围第5项之能电沈积的光阻组合物,其中该多元醇系如双酚A之多酚。7﹒根据申请专利范围第1项之能电沉积的光阻组合物,其中(A)之多异氰酸酯系异佛尔酮二异氰酸酯,甲苯二异氰酸酯,己伸二异氰酸酯,亚甲其三苯基三异氰酸酯或氢化的甲伸二苯基二异氰酸酯。8﹒根据申请专利范围第1项之能电沉积的光阻组合物,其中(a)中之含活性氢的乙烯型不饱和化合物为丙烯酸2-羟乙酯,异丁烯酸2-羟乙酯,丙烯酸或异丁烯酸2-羟丙酯,或胺基乙基异丁烯酸或丙烯酸特丁酥。9﹒根据申请专利范围第1项之能电沉积的光阻组合物,其中(b)中之非离子性不饱和物质系自包括双酚A的二缩水油基醚之二丙烯酸酯,三(羟甲)基丙烷三丙烯酸脂,季戊四醇三丙烯酸酯或一种乙氧化联苯酚的二丙烯酸酯及其混合物等群中选出10﹒根据申请专利范围第1项之能电沉积的光阻组合物,其中(c)中之光引发剂系异丙基吨酮或2-氯吨酮。11﹒根据申请专利范围第1项之能电沉积的光阻组合物,其另一特征在组合物之脱水膜于室温时不胶黏。12﹒根据申请专利范围第11项之能电沉积的光阻组合物,其中组合物之脱水膜于室温及约55%相对湿度时有Sward硬度自约10至50。13﹒一制备光阻涂层之方法,其包括:(1)沉浸导电基质于含能电积组合物的电极内以电沉积一导电基质,其导电基质作阴极用,在与根据申请专利范围第1至10项任一项之能电沉积组合物接触之阴极与阳极间通过电流,继以(2)脱除电沉积组合物膜之水(3)曝露所得电涂膜于预定图案的辐射使基质上层所得曝过光与未曝光部份间达成溶解度差异,继以(4)以一含水稀酸性溶液组合物脱除涂层之可溶部份。14﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中曝露所得电涂层膜于预定图案的照射步骤系经直接放置一含预定图案的光置于电涂层之脱水膜上、然后将膜曝露照射而完成15﹒根据申请专利范围第13项之方法,其中当组合物膜之厚度系等于或低于0﹒5密耳时,系需要每平方公分低于500毫焦耳光曝光剂量以不溶解于稀酸水溶液之经电沈积且脱水之膜。 |
