A process for the manufacture of sputtering targets of ceramic compounds useful for the preparation of hogh temperature superconducting thin films,申请号IN1988DE37719-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	A process for the manufacture of sputtering targets of ceramic compounds useful for the preparation of hogh temperature superconducting thin films
摘要
申请公布号	IN174002(B)	申请公布日期	1994.08.27
申请号	IN1988DE37719	申请日期	1988.05.02
申请人	COUNCIL OF SCIENTIFIC AND INDUSTRIAL RESEARCH	发明人	GUPTA RAM PRATAP;KHOKLE WAMAN SADASHIV
分类号	(IPC1-7):G01L39/12	主分类号	(IPC1-7):G01L39/12
代理机构		代理人
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