发明名称 |
用于半导体器件设计的掩膜数据的波前工程 |
摘要 |
把半导体器件设计的光波数据分成多个区域(102)。只考虑每个区域的光波数据,对每个区域的光波数据执行第一波前工程。基于第一波前工程,规范化每个区域的光波数据(106)。至少基于规范化的每个区域的光波数据,对每个区域的光波数据执行第二波前工程(108)。第二波前工程考虑每个区域的光波数据和每个区域周围的包括每个区域的邻近区域的光波数据的保护带。可以通过把多个区域组织成组来并行地顺序执行第二波前工程(110)。 |
申请公布号 |
CN102792303B |
申请公布日期 |
2015.12.16 |
申请号 |
CN201180013860.3 |
申请日期 |
2011.03.16 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
S·巴格赫里;井上忠宣;D·O·梅尔维利;牟田英正;A·E·罗森布鲁斯;阪本正治;田克汉 |
分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
主分类号 |
G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
高青 |
主权项 |
一种处理掩膜的方法(100),包括:由计算设备的处理器把用于半导体器件设计的光波数据分成多个区域(102);在把所述光波数据分成多个区域之后,由所述处理器只考虑每个区域的所述光波数据,而不考虑每个区域的多个邻近区域的所述光波数据,对每个区域的所述光波数据执行第一波前工程(104);在对每个区域的所述光波数据执行所述第一波前工程之后,由所述处理器基于所述第一波前工程的结果,规范化每个区域的所述光波数据(106);以及在规范化每个区域的所述光波数据之后,由所述处理器考虑每个区域的所述光波数据以及每个区域周围的包括每个区域的所述邻近区域的所述光波数据的保护带,至少基于已被规范化的每个区域的所述光波数据,对每个区域的所述光波数据执行第二波前工程(108)。 |
地址 |
美国纽约 |