| 发明名称 | 导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板 | ||
| 摘要 | 本发明提供能够简易地实现窄间距的导电图案的制造方法和形成有导电图案的基板。在基板(10)的至少一个主面的全部或一部分面上形成金属纳米丝层(12)，隔着以规定图案形成有透光部(14a)的掩模(14)而照射脉冲光，在所述规定图案的形状的区域将所述金属纳米丝层(12)中的金属纳米丝烧结，使所述规定图案的形状的区域显现导电性。由此，能够以简易的工序制造具备任意图案的导电图案的基板。 | ||
| 申请公布号 | CN105164764A | 申请公布日期 | 2015.12.16 |
| 申请号 | CN201480023443.0 | 申请日期 | 2014.04.17 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 内田博;篠崎研二;冈崎惠理;大簱英树;宫村泰直 |
| 分类号 | H01B13/00(2006.01)I;B05D3/06(2006.01)I;B05D5/12(2006.01)I;H01B5/14(2006.01)I | 主分类号 | H01B13/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人 | 刘航;段承恩 |
| 主权项 | 一种导电图案的制造方法，其特征在于，具备：在基板的至少一个主面的全部或一部分上形成包含金属纳米丝的金属纳米丝层的工序；和以规定图案对所述金属纳米丝层照射光，在所述规定图案的形状的区域将所述金属纳米丝层中的金属纳米丝烧结的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||