成膜装置

摘要

本发明提供一种易于进行组装、维护等且能够抑制反应气体进入到波纹管内的成膜装置。配置于在真空氛围下向基板(W)的表面供给反应气体而进行成膜处理的处理容器(1)内的升降轴(23)以自下表面侧支承着用于载置基板(W)的载置台(2)的状态沿上下方向延伸地设置，该升降轴(23)穿过被设于处理容器(1)的贯通口(15)而与外部的升降机构相连接。波纹管(231)自侧方覆盖升降轴(23)的周围而将处理容器(1)内保持为真空气氛，盖构件(41)以包围升降轴(23)的方式配置，吹扫气体供给部(63b)向波纹管(231)内供给吹扫气体，以便形成经由升降轴(23)与盖构件(41)之间的间隙向处理容器(1)流动的气体的流动。

主权项

一种成膜装置，其特征在于，该成膜装置包括：处理容器，其具有真空排气部，其用于在真空氛围下向基板的表面供给反应气体而进行成膜处理；载置台，其设于所述处理容器内，用于载置基板；升降轴，其以自下表面侧支承着所述载置台的状态沿上下方向延伸地设置，该升降轴穿过被设于所述处理容器的贯通口而与外部的升降机构相连接；波纹管，其设于所述处理容器与所述升降机构之间并自侧方覆盖所述升降轴的周围；盖构件，其以与所述升降轴的侧周面之间隔着间隙地包围该升降轴的方式配置，且以在所述间隙以外的部位阻止该盖构件的下方侧空间与该盖构件的上方侧空间之间的连通的方式在整周上安装于处理容器；以及吹扫气体供给部，其向所述波纹管内供给吹扫气体，以便形成经由所述升降轴与所述盖构件之间的间隙自该波纹管向处理容器流动的气体的流动。