发明名称 发光器件
摘要 公开了一种发光器件。发光器件包括n型半导体层、p型半导体层、设置在n型半导体层与p型半导体层之间的有源层和设置在p型半导体层与有源层之间的电子阻挡层。p型半导体层包括空穴注入层、p型接触层和设置在空穴注入层与p型接触层之间的空穴传输层。空穴传输层包括多个未掺杂层和设置在未掺杂层之间的至少一个中间掺杂层。未掺杂层中的至少一个包括空穴浓度随着与空穴注入层或p型接触层的距离增加而降低的区域,中间掺杂层设置为与空穴传输层的区域至少部分重叠,空穴传输层的空穴浓度为p型接触层的空穴浓度的62%至87%。p型半导体层包括具有设置在未掺杂层之间的中间掺杂层的空穴传输层以提高空穴迁移率,以提高空穴注入效率。
申请公布号 CN204885204U 申请公布日期 2015.12.16
申请号 CN201520627904.7 申请日期 2015.08.19
申请人 首尔伟傲世有限公司 发明人 张三硕;郭雨澈;金景海;郑廷桓;白龙贤
分类号 H01L33/14(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I 主分类号 H01L33/14(2010.01)I
代理机构 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人 尹淑梅
主权项 一种发光器件,所述发光器件包含:n型半导体层;p型半导体层;有源层,其设置在所述n型半导体层与所述p型半导体层之间;以及电子阻挡层,其设置在所述p型半导体层与所述有源层之间,其特征在于:所述p型半导体层包括空穴注入层、p型接触层和设置在所述空穴注入层与所述p型接触层之间的空穴传输层,所述空穴传输层包括多个未掺杂层和设置在所述未掺杂层之间的至少一个中间掺杂层,所述未掺杂层中的至少一个包括在其中空穴浓度随着与所述空穴注入层或者所述p型接触层的距离的增加而降低的区域,以及所述中间掺杂层设置为与所述空穴传输层的区域至少部分地重叠,其中所述空穴传输层的所述空穴浓度为所述p型接触层的所述空穴浓度的62%至87%。
地址 韩国京畿道安山市