发明名称 具有自适应性的场截止电流控制型功率器件
摘要 本实用新型涉及半导体器件领域,具体为具有自适应性的场截止电流控制型功率器件,包括金属导电层,金属导电层的一侧设置有衬底或衬底外延层,衬底或衬底外延层上设置有多个沟槽,衬底或衬底外延层的一侧设置有电流控制型功率器件的正面结构,沟槽一侧的金属导电层上设置有电位V端;金属导电层与衬底或衬底外延层之间还有背面重掺杂区,各沟槽内设置有沟槽导电填充物,在沟槽侧壁和沟槽底部设置有绝缘层,各沟槽之间形成感应电荷浓度增强区。本实用新型在传统电流控制型器件中引入了场截止技术,解决了在更薄的芯片上实现更高耐压的问题。通过器件结构设计来实现场截止,摆脱了现有技术所固有的扩散深度有限、高温过程影响器件其他结构及工艺受限等缺点。
申请公布号 CN204885170U 申请公布日期 2015.12.16
申请号 CN201520632959.7 申请日期 2015.08.21
申请人 中国东方电气集团有限公司 发明人 胡强;蒋兴莉;孔梓玮;王思亮;张世勇
分类号 H01L29/745(2006.01)I;H01L29/73(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I;H01L29/872(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/745(2006.01)I
代理机构 成都天嘉专利事务所(普通合伙) 51211 代理人 苏丹
主权项 具有自适应性的场截止电流控制型功率器件,其特征在于:包括金属导电层(101),所述金属导电层(101)的一侧设置有衬底或衬底外延层(100),所述衬底或衬底外延层(100)上设置有多个沟槽,所述衬底或衬底外延层(100)的一侧设置有电流控制型功率器件的正面结构(105),沟槽一侧的金属导电层(101)上设置有电位V端;所述金属导电层(101)与衬底或衬底外延层(100)之间还有背面重掺杂区(106),各沟槽内设置有沟槽导电填充物(102),在沟槽侧壁和沟槽底部(1031)设置有绝缘层(103),各沟槽之间形成感应电荷浓度增强区(104)。
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