位置及深度的检出装置及方法

摘要

本发明公开了一种位置及深度的检出装置及其方法。此检出装置用以检出具有一表面的待测物的位置及深度，包括一电控摆动元件、一光源、一光学系统、一储存单元及一计算单元。该电控摆动元件系经由以电气驱动的一致动器控制此电控摆动元件的摆动角度。该光源系藉由此电控摆动元件将该光源的光束反射至此表面以产生光点。该光学系统用以接收投射至此表面的光点的投射信息。该储存单元用以储存投射至一预设平面的光点的预设信息。该计算单元系依据此投射信息与此预设信息计算出待测物的深度信息。

主权项

一种位置及深度检出装置，用以检出具有一表面的一待测物的位置及深度，其特征在于，所述的装置包括：一电控摆动元件，经由以电气驱动的一致动器控制该电控摆动元件的摆动角度；一光源，藉由所述的电控摆动元件将所述的光源的光束反射至所述的表面以产生一光点；一光学系统，用以接收投射至所述的表面的所述的光点的一投射信息；一储存单元，用以储存投射至一预设平面的所述的光点的一预设信息；以及一计算单元，依据所述的投射信息与所述的预设信息计算出所述的待测物的一深度信息，其中，所述的计算单元更用以依据所述的预设信息与所述的投射信息得到的所述的光点的一大小变形量与一强度中心变异量来计算出所述的待测物的所述的深度信息。