电浆处理装置内的基片支撑盘及其运行方法

摘要

一种电浆处理装置，包括一反应腔，反应腔内下方包括导电基座、静电夹盘、托盘、基片，静电夹盘固定在所述导电基座上，托盘放置在所述静电夹盘上，基片固定在所述托盘内，所述托盘包括一平板部和一向上凸起部，平板部上表面直径大于所述基片，所述凸起部环绕所述平板部和位于平板部上的基片，所述静电夹盘直径大于所述基片的直径且小于等于托盘的直径。