用于设计度量目标之方法、具有度量目标之基板、用于度量叠对之方法及器件制造方法;METHOD OF DESIGNING METROLOGY TARGETS, SUBSTRATES HAVING METROLOGY TARGETS, METHOD OF MEASURING OVERLAY, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

摘要

藉由一微影程序而形成度量目标，每一目标包含一底部光栅及一顶部光栅。可藉由运用辐射来照明每一目标且观测绕射辐射中之不对称性而量测该微影程序之叠对效能。选择度量配方及目标设计之参数，以便最大化叠对量测准确度，而非再现性。方法包括演算(i)表示由该顶部光栅绕射之辐射之一第一辐射分量与(ii)表示在行进通过该顶部光栅及介入层之后由该底部光栅绕射之辐射之一第二辐射分量之间的一相对振幅及一相对相位中之至少一者。可修改顶部光栅设计以使该相对振幅接近于一。可调整该度量配方中之照明辐射之波长以使该相对相位接近于π/2或3π/2。