发明名称 一种P掺杂SiC纳米颗粒薄膜的制备方法
摘要 本发明涉及一种P掺杂SiC纳米颗粒薄膜的制备方法,属于纳米材料技术领域。所述制备方法包括如下步骤:有机前驱体热交联固化和粉碎,得有机前驱体粉末;将有机前驱体粉末和FePO<sub>4</sub>·H<sub>2</sub>O粉末混合均匀后置于石墨坩埚底部,将碳布衬底放置在坩埚顶部;将石墨坩埚及碳布衬底一起置于气氛烧结炉中,先以28-32℃/min的速率从室温升温至1300-1400℃,再以20-25℃/min的速率升温至1400-1500℃进行热解;热解后气氛烧结炉以12-75℃/min的速率先冷却至1080-1150℃,再随炉冷却至室温,即可得到以碳布为衬底的P掺杂SiC纳米颗粒薄膜。本发明制备方法简单可控,具有很好重复性,实现了在碳纤维布衬底上制备SiC纳米颗粒薄膜,实现了对SiC纳米颗粒薄膜的P掺杂,并实现了对P掺杂SiC纳米颗粒尺寸的有效调控。
申请公布号 CN105161554A 申请公布日期 2015.12.16
申请号 CN201510511223.9 申请日期 2015.08.19
申请人 宁波工程学院 发明人 陈善亮;高凤梅;王霖;郑金桔;杨为佑
分类号 H01L31/028(2006.01)I 主分类号 H01L31/028(2006.01)I
代理机构 宁波市鄞州盛飞专利代理事务所(普通合伙) 33243 代理人 张向飞
主权项 一种P掺杂SiC纳米颗粒薄膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:有机前驱体热交联固化和粉碎,得有机前驱体粉末;将有机前驱体粉末和FePO<sub>4</sub>·H<sub>2</sub>O粉末混合均匀后置于石墨坩埚底部,将碳布衬底放置在坩埚顶部;将石墨坩埚及碳布衬底一起置于气氛烧结炉中,先以28‑32℃/min的速率从室温升温至1300‑1400℃,再以20‑25℃/min的速率升温至1400‑1500℃进行热解;热解后气氛烧结炉以12‑75℃/min的速率先冷却至1080‑1150℃,再随炉冷却至室温,即可得到以碳布为衬底的P掺杂SiC纳米颗粒薄膜。
地址 315016 浙江省宁波市海曙区翠柏路59号