发明名称 | 蒸镀设备和蒸镀方法 | ||
摘要 | 本发明是关于一种蒸镀设备和蒸镀方法,属于镀膜技术领域。蒸镀设备包括:镀膜腔室和至少一个蒸发源腔室,镀膜腔室中设置有基片放置组件,第一蒸发源腔室中设置有蒸发源放置组件,蒸发源放置组件用于放置蒸发源,第一蒸发源腔室为至少一个蒸发源腔室中任一蒸发源腔室;镀膜腔室和第一蒸发源腔室之间设置有密封组件,密封组件打开时,镀膜腔室和第一蒸发源腔室连通,密封组件关闭时,镀膜腔室和第一蒸发源腔室隔断。本发明通过设置至少一个用于放置蒸发源的蒸发源腔室,且通过密封组件可以连通或隔断蒸发源腔室和镀膜腔室,解决了相关技术中,更换基片时空气会对蒸发源造成污染的问题;达到了避免空气污染蒸发源的效果。 | ||
申请公布号 | CN105154832A | 申请公布日期 | 2015.12.16 |
申请号 | CN201510666908.0 | 申请日期 | 2015.10.15 |
申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 张鑫狄;孙俊民 |
分类号 | C23C14/24(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/24(2006.01)I |
代理机构 | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人 | 鞠永善 |
主权项 | 一种蒸镀设备,其特征在于,所述蒸镀设备包括:镀膜腔室和至少一个蒸发源腔室,所述镀膜腔室中设置有基片放置组件,所述基片放置组件用于放置基片,第一蒸发源腔室中设置有蒸发源放置组件,所述蒸发源放置组件用于放置蒸发源,所述第一蒸发源腔室为所述至少一个蒸发源腔室中任一蒸发源腔室;所述镀膜腔室和所述第一蒸发源腔室之间设置有密封组件,所述密封组件打开时,所述镀膜腔室和所述第一蒸发源腔室连通,所述密封组件关闭时,所述镀膜腔室和所述第一蒸发源腔室隔断。 | ||
地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |