发明名称 |
一种氮化物系发光二极管 |
摘要 |
本发明公开一种氮化物系发光二极管,包括一衬底,在所述衬底上依次设置有非掺层u-GaN、n型导电层n-GaN、有源区和限制层P-AlGaN,在所述限制层P-AlGaN上设置有V型坑蚀刻层,在所述V型坑蚀刻层上设置有V型坑成核层,在所述V型坑成核层上设置有V型坑三维快速层,在所述V型坑三维快速层上设置有V型坑二维快速层,在所述V型坑二维快速层上依次设置有P型导电层、P型接触层和ITO导电层。本发明增加P型区域空穴注入有源区的数量,提高内量子效率;减少V型坑形成漏电通道,提高发光二极管的可靠性,能够提高蓝绿光芯片的内量子效率。 |
申请公布号 |
CN105161590A |
申请公布日期 |
2015.12.16 |
申请号 |
CN201510627550.0 |
申请日期 |
2015.09.28 |
申请人 |
厦门乾照光电股份有限公司 |
发明人 |
林志伟;陈凯轩;张永;卓祥景;姜伟;方天足;陈亮 |
分类号 |
H01L33/32(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/32(2010.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种氮化物系发光二极管,包括一衬底,其特征在于:在所述衬底上依次设置有非掺层u‑GaN、n型导电层n‑GaN、有源区和限制层P‑AlGaN,在所述限制层P‑AlGaN上设置有V型坑蚀刻层,在所述V型坑蚀刻层上设置有V型坑成核层,在所述V型坑成核层上设置有V型坑三维快速层,在所述V型坑三维快速层上设置有V型坑二维快速层,在所述V型坑二维快速层上依次设置有P型导电层、P型接触层和ITO导电层。 |
地址 |
361100 福建省厦门市翔安区厦门火炬高新区(翔安)产业区翔天路259-269号 |