| 主权项 |
1.一种使用于化学放大光阻剂之聚合物,该聚合物具有化学式(CF1)或化学式(CF2),其中R1为二-烷基丙二酸酯基,R4为三级丁基或四氢喃基,R2,R3,R5及R6为氢或甲基,1,m和n为整数,1/(1+m+n)的比率为由0.01至0.5,m/(1+m+n)的比率为由0.01至0.5,及n/(1+m+n)的比率为由0.1至0.5。2.根据申请专利范围第1项之聚合物,其中二-烷基丙二酸酯基为选择自由二-三级丁基丙二酸酯基及或二-四氢喃基丙二酸基所组成之族群中。3.根据申请专利范围第1项之聚合物,其中该聚合物具有重量平均分子量为由5,000至100,000之范围。4.一种光阻剂组成物,其包含:具有化学式(CF1)或化学式(CF2)之聚合物;及光敏性酸生成剂其中R1为二-烷基丙二酸酯基,R4为三级丁基或四氢喃基,R2,R3,R5及R6为氢或甲基,1,m和n为整数,1/(1+m+n)的比率为由0.01至0.5,m/(1+m+n)的比率为由0.01至0.5,及n/(1+m+n)的比率为由0.1至0.5。5.根据申请专利范围第4项之光阻剂组成物,其中该光阻剂组成物进一步包含重量为基于聚合物重量之由0.01至2.0重量百分率之有机硷。6.根据申请专利范围第5项之光阻剂组成物,其中该有机硷为二乙胺,三异丁基胺,二乙醇胺或三乙醇胺。7.根据申请专利范围第4项之光阻剂组成物,其中该光敏性酸生成剂为二芳基盐类,二芳基碘盐类,或磺酸盐类。8.根据申请专利范围第4项之光阻剂组成物,其中二-烷基丙二酸酯基为选择自由二-三级丁基丙二酸酯基及二-四氢喃基丙二酸酯基所组成之族群中。9.根据申请专利范围第4项之光阻剂组成物,其中光敏性酸生成剂之量为基于聚合物重量之由1至15重量百分率。10.根据申请专利范围第4项之光阻剂组成物,其中R1和R4为三级丁基;及R2,R3,R5和R6为氢。11.一种制备使用于化学放大光阻剂之聚合物的方法,其包含:聚合作用二-烷基丙二醯基甲基苯乙烯,烷氧基苯乙烯或烷氧基苯乙烯衍生物,与乙醯氧基苯乙烯或乙醯氧基苯乙烯衍生物以得到具有三个或更多个不同单体之三元共聚物;及使用一有机硷去乙醯化经由聚合作用而得之三元共聚物。12.根据申请专利范围第11项之方法,其中该有机硷系选自包含氢氧化铵和联胺。13.一种制备使用于化学放大光阻剂之聚合物的方法,其包含:聚合作用二-烷基丙二醯基甲基苯乙烯,(甲基)丙烯酸酯衍生物,与乙醯氧基苯乙烯或乙醯氧基苯乙烯衍生物以得到具有三个或更多个不同单体之三元共聚物;及使用一有机硷去乙醯化经由聚合作用而得之三元共聚物。14.根据申请专利范围第13项之方法,其中该有机硷为氢氧化铵和联胺。 |
