发明名称 FILM FORMATION DEVICE AND FILM FORMATION METHOD
摘要 자석 유닛과 타깃재를 바꾸는 것만으로, 기재의 사이즈 변경에 대응할 수 있는 성막 장치를 제공한다. 본 발명의 성막 장치(1)는, 기재 W의 정면에 대향하는 증발원(2)을 사용하고, 반송되는 기재 W의 표면에 성막을 행하는 것으로써, 증발원(2)이 타깃재(7)와 백킹 플레이트(8)와 자석 유닛(9)과 캐소드 보디(10)와, 냉각수 유로(12)를 갖는다. 냉각수 유로(12)는, 자석 유닛(9)과 백킹 플레이트(8)가 이격되어 이루어지는 공간이며 이 공간을 냉각수가 유통 가능하다. 자석 유닛(9)으로서 기재 W보다도 협폭으로 이루어진 협폭 기재에 대응해서 짧은 사이즈 것이 배치 가능하게 되고, 타깃재(7)로서, 배치된 자석 유닛(9)의 폭에 대응해서 짧은 사이즈의 것이 배치되어 있다.
申请公布号 KR20150140384(A) 申请公布日期 2015.12.15
申请号 KR20157032260 申请日期 2014.03.31
申请人 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO 发明人 NAGAMINE ASUKA;TAMAGAKI HIROSHI
分类号 C23C14/35;C23C14/34;C23C14/56;H01J37/34 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
主权项
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