| 摘要 |
ワークステージ及びマスクステージによって共有するバランスマスシステムは、バランスマスおよびアンチドリフトおよび補償装置(16)を含む。バランスマスは、ワークステージシステムに据えられた第１部分(11)、マスクステージシステムに据えられた第２部分(20)、及び第１部分(11)と第２部分(20)相互接続する第３部分(14)とを備える。第１部分(11)は、リソグラフィマシンのベースフレーム(1)上に固定せずに配置され、バランスマスの第３部分(14)は、アンチドリフト及び補償装置(16)を介してベースフレーム(1)に接続する。アンチドリフト及び補償装置(16)は、全体としてバランスマスの重心の中心に近傍に配置されている。このバランスマスシステムは、マスクステージシステムの追加サポートを使用する必要性を排除し、より高い構造小型、小型軽量で、リソグラフィ装置の構築を可能にし、使用するバランスマスの全質量を低減することができる。【選択図】図１ |
