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发明名称
プラズマ処理装置、および高周波発生器
摘要
プラズマ処理装置(11)は、その内部でプラズマによる処理を行う処理容器(12)と、高周波を発振する高周波発振器を有し、処理容器(12)外に配置されて高周波を発生させる高周波発生器を含み、高周波発生器により発生させた高周波を用いて処理容器(12)内にプラズマを発生させるプラズマ発生機構(19)と、高周波発振器の状態を判断する判断機構と、判断機構による判断結果を報知する報知機構とを備える。
申请公布号
JPWO2013146655(A1)
申请公布日期
2015.12.14
申请号
JP20140507858
申请日期
2013.03.25
申请人
東京エレクトロン株式会社
发明人
金子 和史;舩▲崎▼ 一憲;加藤 秀生
分类号
H05H1/46;C23C16/511;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/31
主分类号
H05H1/46
代理机构
代理人
主权项
地址
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