複数のプラズマ源部を備えたイオン注入装置

摘要

本発明は、高圧電流路ＰＥＴを介して基板電源ＡＬＴへ接続された基板支持台ＰＰＳを内部に有する容器ＥＮＶを含むイオン注入装置であって、該容器ＥＮＶはポンプ手段ＰＰ、ＰＳを備え、該容器ＥＮＶは少なくとも２個の、障害物を含まず、該基板支持台に面した筒状プラズマ源部ＣＳ１、ＣＳ２を有するイオン注入装置に関する。このイオン注入装置は、プラズマ源部ＣＳ１、ＣＳ２ごとに少なくとも一つの閉じ込め回路ＢＣＩ１−ＢＣＳ１、ＢＣＩ２−ＢＣＳ２を含む点に特徴がある。【選択図】図１