RF RF RETURN STRAP FOR USE IN PLASMA PROCESSING APPARATUS

摘要

플루오르 및 산소 라디칼과 같은 플라즈마 발생 라디칼로부터 RF 스트랩을 보호하기 위해 플라즈마 챔버에서 이용되는 플렉시블 폴리머 또는 엘라스토머 코팅된 RF 리턴 스트랩, 및 플라즈마 프로세싱 장치에서 입자 오염이 감소된 반도체 기판을 프로세싱하는 방법이 개시된다. 코팅된 RF 스트랩은 입자 발생을 최소화하고, 코팅되지 않은 베이스 컴포넌트보다 더 낮은 부식률을 나타낸다. 전도성 플렉시블 베이스 컴포넌트 상에 플렉시블 코팅을 갖는 이러한 코팅된 부재는 조정가능 갭 용량 결합형 플라즈마 리액터 챔버에서 하나 이상의 전극의 이동을 허용하도록 구성되는 RF 접지 리턴을 제공한다.