发明名称 |
附载体铜箔、附载体铜箔之制造方法、印刷配线板及印刷电路板 |
摘要 |
|
申请公布号 |
TWI512151 |
申请公布日期 |
2015.12.11 |
申请号 |
TW102143428 |
申请日期 |
2013.11.28 |
申请人 |
JX日鑛日石金属股份有限公司 |
发明人 |
本多美里;永浦友太 |
分类号 |
C25D7/06;H05K1/09;H05K3/18;B32B15/08 |
主分类号 |
C25D7/06 |
代理机构 |
|
代理人 |
阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼;林景郁 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
一种附载体铜箔,依序具有铜箔载体、中间层、极薄铜层,该中间层系自该铜箔载体侧起依序积层镍、及钼或钴或钼-钴合金而构成,于该中间层中,镍附着量为1000~40000μg/dm2,于含有钼之情形时,钼附着量为50~1000μg/dm2,于含有钴之情形时,钴附着量为50~1000μg/dm2,自该铜箔载体/中间层/极薄铜层之剖面依照该顺序于包含该等全部之范围内进行长度50~1000nm之STEM射线分析时,镍浓度之最大值为50~95质量%,且于较镍更靠极薄铜层侧,钼或钴以最大值计存在1~50质量%。 |
地址 |
日本 |