发明名称 自对准光学结构、其形成方法及光学装置的形成方法
摘要
申请公布号 TWI512348 申请公布日期 2015.12.11
申请号 TW102146353 申请日期 2013.12.16
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 赖瑞协;郭英颢;陈海清;包天一
分类号 G02B6/13;G02B3/00 主分类号 G02B6/13
代理机构 代理人 洪澄文 台北市南港区三重路19之6号2楼;颜锦顺 台北市南港区三重路19之6号2楼
主权项 一种自对准光学结构的形成方法,包括:提供一平面工件表面,其包括具有一第一润湿性系数之一第一表面区域及具有一第二润湿性系数之一第二表面区域,其中该第一表面区域与该第二表面区域共平面且该第二润湿性系数与该第一润湿性系数不同,其中该第二表面区域包括被该第一表面区域将彼此分离的复数个第一及第二次区域(sub-region)表面,且其中该些第一及第二次表面分别具有第一长度及第二长度,其中该第一长度与第二长度不同;施予(dispensing)一液体,其对应于位于该工件的该第一及第二表面区域上的一光学结构,其中因为该第一及第二润湿性系数之间的不同,该液体自对准(self-align)至该第一次区域及第二次区域表面;以及硬化该自对准液体以在该第一次区域表面上形成一第一光学结构并在该第二次区域表面上形成一第二光学结构。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号