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经营范围
发明名称
具有含低带隙包覆层之通道区的非平面半导体装置
摘要
申请公布号
TWI512802
申请公布日期
2015.12.11
申请号
TW102133555
申请日期
2013.09.16
申请人
英特尔股份有限公司
发明人
拉多撒福杰维克 马可;狄威 吉伯特;朱功 班杰明;巴苏 迪潘杰;珈纳 萨纳斯;苏利 沙亚斯;皮拉瑞斯提 拉维;穆可吉 尼洛依;陈汉威;乔 罗伯特
分类号
H01L21/28;H01L29/78
主分类号
H01L21/28
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种半导体装置,包含:复数条奈米线的一垂直配置,配置在基板上,每一奈米线相对于该基板水平地定向且每一奈米线包含具有第一带隙的内区域以及围绕该内区域的一外包覆层,该包覆层具有较窄之第二带隙;一闸极堆叠,配置在每一奈米线的通道区域上并且将它完全围绕,该闸极堆叠包含配置在该包覆层上并且围绕它的闸极介电层以及配置在该闸极介电层上的闸极电极;以及源极与汲极区域,配置在该些奈米线之该些通道区域的任一侧上。
地址
美国
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