发明名称 化合物半导体装置及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI512974 申请公布日期 2015.12.11
申请号 TW102132549 申请日期 2013.09.10
申请人 创世舫电子日本股份有限公司 发明人 吉川俊英;温井健司
分类号 H01L29/778;H01L29/40 主分类号 H01L29/778
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种化合物半导体装置,包含:一化合物半导体层;及一对电极,系形成在该化合物半导体层之上侧;该对电极系为源极电极及汲极电极;其中该汲极电极具有沿多数输送电子出自与该化合物半导体层之接触表面的多数底面,且该等多数底面系设置成与该等输送电子不同距离,并且较靠近该源极电极的该底面系较远离该等输送电子。
地址 日本