发明名称 光学薄膜层合体之制造方法、薄型偏光膜、偏光板及液晶显示装置
摘要
申请公布号 TWI512342 申请公布日期 2015.12.11
申请号 TW102122164 申请日期 2013.06.21
申请人 柯尼卡美能达股份有限公司 发明人 佐佐木达也
分类号 G02B5/30;G02F1/1335;B29D11/00 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种光学薄膜层合体之制造方法,其系包括(1)在热塑性树脂基材上层合亲水性高分子层而形成层合体之层合步骤;(2)使前述层合体在空气中延伸而形成包含经配向的亲水性高分子层之延伸层合体之延伸步骤;及(3)使二色性物质吸附于前述亲水性高分子层之染色步骤;前述空气中延伸时,前述基材的薄膜宽度方向的并未层合亲水性高分子层的端部的温度在高于前述基材的薄膜宽度方向的中心的温度1~40℃的范围内;前述光学薄膜层合体中的前述亲水性高分子层的厚度在2~10μm的范围内,前述光学薄膜层合体中的前述基材的厚度为5~45μm的范围内,且以JIS K7209之(A法)为基准,由下述式(1)所求得之前述层合步骤前的基材的吸水率在0.3~4.3%的范围内;吸水率=(w2-w1)/w1×100(%)…式(1)式(1)中,w1为浸渍于水中之前的测试片乾燥质量(mg),w2为在23.0±1.0℃的水中浸渍24±1小时之后的测试片质量(mg)。
地址 日本