发明名称 |
用于经改良的研磨垫外形之闭回路控制 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI511839 |
申请公布日期 |
2015.12.11 |
申请号 |
TW100113575 |
申请日期 |
2011.04.19 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
迪汉达潘尼席维库玛;钱隽;可卡克里斯多夫D;冯杰森哲谦;张寿松;盖瑞森查尔斯C;敏克葛利格瑞E;蔡东辰 |
分类号 |
B24B53/017;B24B37/04 |
主分类号 |
B24B53/017 |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼 |
主权项 |
一种调节定位于一金属平台总成上的一研磨垫之方法,包含以下步骤:使该研磨垫之一表面与容纳于一调节头中的一调节盘接触;量测该研磨垫之一区之一磨损外形,同时使该调节盘拂掠跨越该研磨垫之该表面;将该研磨垫之该区之量测到的该磨损外形与一目标磨损外形进行比较,其中该目标磨损外形为非平面;以及基于该研磨垫之该区之量测到的该磨损外形与该目标磨损外形之该比较来调整该区中之该调节盘之一驻留时间,其中该研磨垫之该磨损外形使用耦接于一调节臂的一感应感测器来量测,其中该感应感测器系定位于距离该调节盘的一固定非零距离,且其中该调节臂具有:一远端,耦接于容纳该调节盘的该调节头;以及一近端,耦接于一支撑总成。
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地址 |
美国 |