发明名称 光学成像装置及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI512956 申请公布日期 2015.12.11
申请号 TW099103223 申请日期 2010.02.03
申请人 FLIR系统贸易比利时公司 发明人 克里曼 摩西;威尔奇 威廉 休德森;汉普斯顿 吉尔斯;艾维夏 欧希尔;汉萨娜维奇 菲利克斯;艾克瑟罗德 伊卡特瑞那
分类号 H01L27/146 主分类号 H01L27/146
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种光学成像装置,其包括:第一光学子总成,其包括辐射透射基板,该辐射透射基板含有至少一个光学表面,及第一间隔件,该第一间隔件是由可操作以吸收穿过该第一光学子总成之一或多个波长之电磁辐射的材料构成,其中该第一光学子总成的该第一间隔件包括孔径且其中至少一个该光学表面与该第一光学子总成的该第一间隔件之顶表面耦合;及感测器子总成,其包括至少一个感测元件及第二间隔件,该第二间隔件包括彼此耦合之两种或更多种材料的复合构造;且其中该第一光学子总成之该第一间隔件与该感测器子总成之该第二间隔件耦合。
地址 比利时