发明名称 化学增幅正型光阻材料及图型形成方法
摘要
申请公布号 TWI512398 申请公布日期 2015.12.11
申请号 TW101101613 申请日期 2012.01.16
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 安田浩之;竹村胜也;小池则之
分类号 G03F7/004;G03F7/039;G03F7/075 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种化学增幅正型光阻材料系以波长150nm以上之紫外线作为曝光光源者,其系含有(A)~(C)成分,(A)高分子化合物,其系具有被酸不安定基保护的酸性官能基之硷不溶性或难溶性高分子化合物,于该酸不安定性基脱离时变成硷可溶性、(B)酸产生剂、(C)以下述一般式(1)表示之非离子性含氟有机矽氧烷系化合物, (式中,Rf表示在碳数5~30之分子链中含有1个以上之醚键的全氟烷基、Q表示聚乙二醇或聚丙二醇之均聚链或此等两者之共聚合链所形成的聚醚基、R为氢原子或碳数1~4之烷基、X为除氧原子外之2价连结基、Y为2价连结基、p为3以上之整数、n为满足0<n<3之正数)。
地址 日本
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