用于镶嵌式图案化之ＡＶＤ硬遮罩

主权项

一种形成积体电路结构的方法，包含：在积体电路结构的接触点上形成介电层；在该介电层的表面上形成包含介电材料的硬遮罩；在该硬遮罩中形成开口，并在该介电层中形成沟槽；在该沟槽中以及在该硬遮罩上形成牺牲材料；在该牺牲材料上形成遮罩，该遮罩具有用于贯孔形成的至少一开口；使用该硬遮罩做为图案，在该介电层中形成至少一个到达该接触点的贯孔；以及在形成到达该接触点的该至少一个贯孔之后，在该贯孔中形成与仍保留在该介电层上之该硬遮罩的互连。