| 主权项 |
一种量测藉由一微影程序形成于一基板上之一或多个周期性结构之一属性的方法，该方法包含以下步骤：(a)使用该微影程序以在该基板上形成一目标结构，该目标结构包括该基板上之一或多个周期性结构；(b)形成及侦测该目标结构之至少一影像，同时用一辐射光束来照明该目标结构，该影像系使用非零阶绕射辐射之一第一部分同时排除零阶绕射辐射而形成；(c)使用自该目标结构之该影像内之至少一所关注区所提取的强度值以判定该等周期性结构之一对应周期性结构之该属性，其中为了执行步骤(c)，藉由辨识该目标结构之该影像中复数个边界特征之部位且自该等经辨识部位特征演算该所关注区之一部位而在该经侦测影像中识别该所关注区，且其中在至少一方向上，该等边界特征之数目为该目标结构内周期性结构之边界之一数目的至少两倍。 |
