发明名称 Verfahren zum Herstellen eines III-Metall-Nitrid-Einkristalls
摘要 <p>Verfahren des Wachsens eines Einkristalls eines Nitrids eines zu der Gruppe III zugehörigen Metalls, wobei das Verfahren ein Vorlagensubstrat verwendet, das einen Substrathauptkörper mit zumindest einer Seitenfläche und einem Paar von Hauptflächen und zumindest einen Unterlagefilm aus einem Einkristall eines Nitrids eines zu der Gruppe III zugehörigen Metalls, der auf zumindest einer Hauptfläche des Substrathauptkörpers gebildet ist, umfasst, um den Einkristall auf dem Unterlagefilm durch einen Flüssigphaseprozess zu wachsen, wobei der Unterlagefilm in einer Draufsicht eine Form einer konvexen Figur aufweist, wobei eine Oberfläche ohne den Unterlagefilm darauf den gesamten Umfang des Unterlagefilms umrundet, und wobei das Vorlagensubstrat entweder mehrere Unterlagenfilme umfasst und der Einkristall eines Nitrids eines zu der Gruppe III zugehörigen Metalls, der auf dem Unterlagefilm gewachsen wird, nicht mit einem Einkristall eines Nitrids eines zu der Gruppe III zugehörigen Metalls, der auf einem anderen Unterlagefilm gebildet wird, in Kontakt gebracht wird oder das Vorlagensubstrat genau einen Unterlagenfilm umfasst.</p>
申请公布号 DE112009000195(B4) 申请公布日期 2015.12.10
申请号 DE20091100195T 申请日期 2009.01.22
申请人 NGK INSULATORS, LTD. 发明人 HIRAO, TAKAYUKI;IMAI, KATSUHIRO;ICHIMURA, MIKIYA
分类号 C30B19/12;C30B29/38 主分类号 C30B19/12
代理机构 代理人
主权项
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