发明名称 低屈折率膜形成用焼結体及びその製造方法
摘要 <p>亜鉛(Zn)、マグネシウム(Mg)、酸素(O)、フッ素(F)からなる焼結体であって、マグネシウム(Mg)のフッ化物をMgの元素量換算で1.0〜27mol%含有することを特徴とする焼結体。この焼結体に基づいて、フレキシブルディスプレイ用、有機ELテレビ用、タッチパネル用電極用、光情報記録媒体の保護層、反射層又は半透過層を形成する光学薄膜用、ハードディスクのシード層用の薄膜を形成する際に用いることができる焼結体を提供する。これにより、非晶質であり、消衰係数が0.01以下(波長450nm)の良好な可視光の透過率と屈折率が2.0以下の低屈折率である上記用途に最適な薄膜を提供することができる。【選択図】図1</p>
申请公布号 JPWO2013146448(A1) 申请公布日期 2015.12.10
申请号 JP20140507743 申请日期 2013.03.19
申请人 JX日鉱日石金属株式会社 发明人 奈良 淳史
分类号 C04B35/453;C23C14/08;C23C14/34 主分类号 C04B35/453
代理机构 代理人
主权项
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